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10nm工艺根本不算什么,Intel已懂得如何制造7nm工艺

2015-5-27 19:28| 发布者: 龙凤呈祥| 查看: 205| 评论: 0|原作者: bolvar|来自: 超能网--科技生活第一站

摘要: Intel拥有地球上最先进的半导体制造工艺,官方毫不谦虚地说要领先TSMC等对手三年半,不过16/14nm节点上其他对手也追赶上来了,三星的14nm FinFET工艺已经量产,还在积极准备10nm工艺,而TSMC也预计在2017年量产10nm ...
10nm工艺根本不算什么,Intel已懂得如何制造7nm工艺

Intel拥有地球上最先进的半导体制造工艺,官方毫不谦虚地说要领先TSMC等对手三年半,不过16/14nm节点上其他对手也追赶上来了,三星的14nm FinFET工艺已经量产,还在积极准备10nm工艺,而TSMC也预计在2017年量产10nm工艺,差不多跟Intel同一年推出了,水平相当。Intel的王者地位似乎受到了挑战,不过他们并不为此着急,手里还是有很多黑科技的,别说10nm工艺了,他们已懂得如何制造7nm工艺了。

Intel公司总裁蕾妮·詹姆斯(Renee James)在公司年度会议的Q&A提问环节回答了制程工艺的问题,她说“10nm之后会迎来7nm工艺,我们对如何在该工艺节点上生产半导体很自信。总之,我们认为我们的状况非常好。”

这并非Intel第一次对7nm工艺表达自信了,去年的IDF会议上,Intel院士Mark Bohr在回答提问时也做过类似表态。当时大家都很关心EUV光刻设备的进展,这对半导体制造很重要,但他表示就算没有EUV光刻机,Intel也懂得如何制造10nm及7nm工艺电路。

作为摩尔定律的提出者及最坚定的捍卫者,Intel在半导体工艺上一直保持领先,他们手头还有很多黑科技没有曝光。此前有分析认为Intel在10nm节点可能会使用量子阱晶体管、铟镓砷及应变锗等先进工艺与材料,Intel虽然并没有公开讨论过10nm及7nm工艺的细节,但他们如此自信的背后显然是有备而来的。

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